中芯工程師自曝國產DUV問題一堆 打臉量產28奈米
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中國半導體中芯國際宣稱先進製程有重大突破,但知名半導體研究顧問透露,中芯工程師自曝,中國自行開發的DUV曝光機問題一推、效率並不好,甚至接到很多投訴電話。示意圖。(圖/新聞合成圖)
【新唐人亞太台 2022 年 09 月 12 日訊】中國半導體公司中芯國際不久前宣布,其先進製程有重大突破,不過,日前有知名半導體研究顧問SemiAnalysis分析師迪倫·帕特爾(Dylan Patel)透露,有中芯工程師自曝,中國自行開發的DUV曝光機問題一推、效率並不好,甚至接到很多投訴電話。
根據阿拉伯「半島電視台」報導,中芯日前傳出已掌握7奈米製程的消息,若中國想要跨進7奈米以下的先進製程,需要荷商艾司摩爾ASML獨家生產的EUV機台,但現階段在美國遊說下,ASML並未出貨EUV給中國,因此中國轉而積極囤積DUV,光是去年就狂掃81台。傳出中國就是使用DUV來製造高端晶片。
帕特爾指出,中芯國際工程師自己洩露這些DUV機器容易被投訴,問題一推,中國並未製造出功能良好的ArF曝光機。他並強調,中國使用外國設備製造晶片的技術落後很多年,其國產設備更是落後外國幾十年。
報導認為,帕特爾日前透露的情況「等於打臉之前傳出中國上海微電子即將量產28奈米 DUV的訊息」。
美國近期已經祭出多項措施,阻止高端晶片技術輸入中國,除了晶片法案鼓勵企業在美設廠外,並限制取得補助的企業,10年內不得於中國建造新廠或是擴充低於28奈米的先進製程。
緊接著,美國商務部上個月宣布禁止對中國出口用於3奈米以下製程的EDA軟體;上週則限制GPU雙雄超微(AMD)、輝達(NVIDIA)高階人工智慧(AI)晶片出貨中國。
新唐人亞太電視 莊麗存 綜合報導
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