台積先進製程新戰力 下世代EUV設備傳本月進駐
2024-09-10 17:26:11
半導體先進製程， 2 奈米以下埃米時代，ASML 高數值孔徑極紫外光 (High-NA EUV) 曝光機就成為先進製程半導體廠的關鍵，繼英特爾之後，台積電第一台High-NA EUV，傳出這個月進機台，將移入台積電全球研發中心，據外媒報導，High-NA EUV 每套 3.8 億美元 (約新台幣 120 億元)，傳出董事長魏哲家親自操刀，讓ASML提供價格折扣，議價幅度達15%。業界表示，High NA EUV設備體積龐大，規格特殊且精密，如何運送入廠，交通路線需仔細研究。
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