華為秀專利要造EUV? 外媒:未必做的出來

【新唐人亞太台 2022 年 12 月 27 日訊】華為日前公開,極紫外光(EUV)新技術專利,外界分析這是華為將投入光刻機研發的訊號,用來製造高階製程7奈米以下晶片。不過全球知名硬體網站《Tom's Hardware》報導指出,EUV光刻機非常複雜,不是申請幾項專利就能造出,一台EUV光刻機有超過10萬個先進零組件,需要相關上下游產業鏈配合。很多公司都試圖開發EUV,最後只有 ASML 經過10多年努力,才取得成功。

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