央視刪華為5奈米宣傳片 中國半導體工程師：放棄幻想

央視刪華為5奈米宣傳片 中國半導體工程師：放棄幻想

【新唐人亞太台 2025 年 05 月 28 日訊】中共央視近日報導稱，中企中芯使用較舊的曝光機，替華為生產5奈米晶片，即使良率只有20％，但仍引起美國國會警覺，不過，後來央視自己先刪除報導，平台上只剩個別的轉載影片。中國業內人士和學者披露，EUV研發極難突破，中國至少十年都沒能力製造高端晶片。

5月24日，中共央視報導華為鴻蒙電腦搭載了5奈米晶片「麒麟X90」，顯示華為已經突破美國的制裁，但報導不久之後就被刪除，引發關注。

中國晶片大廠產品經理 易先生(變音)：「我們國內最先進的製程目前是沒有能力，問題在於光刻機是太難突破了，中芯國際7奈米的產能，滿足華為都不夠，7奈米的良率現在也就是徘徊在五成左右，做到5奈米，良率超級低。其他晶片公司一般都是在做12奈米或14奈米的，良率也不行。」

據了解，美國禁止荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML） 對中國出口EUV（極紫外光）光刻機，導致中國無法生產7奈米以下的高端晶片。2021年，中芯國際使用DUV（深紫外光）光刻機多重曝光，做出了7奈米晶片。 

中國微電子博士陳堯（化名）透露，國內多所大學合作研發的EUV光刻機，至少要十年才可能問世。

中國微電子博士 陳堯(化名、變音)：「國內光刻機正嘗試28奈米。現在要攻克的，在光方面，極窄帶的紫外光，至少需要5年左右，之後需要高精度的研磨板跟精密機器這一塊兒，至少還得再需要3到5年，之後商用還得需要至少2到3年的時間。」

由深圳市國資委投資的晶片設備大廠新凱來，今年三月底公布研發出適用於300毫米晶圓的28奈米浸潤式光刻機。化名王耀的華為前工程師透露，國企貪腐嚴重，所以當年他沒去新凱來。

中國半導體大廠工程師 王耀(化名、變音)：「這幾次制裁已經讓華為放棄了所有的幻想。2020年，新凱來剛成立的時候，就是華為內部調人的，只要你願意去，直接跟國家簽合同，一簽就是簽8年，由國家來出錢養這批人。」

美國針對中國半導體行業，去年底，將140家中國公司列入貿易黑名單。今年3月再增加54家；4月又禁止輝達出售AI晶片H20給中國。 

中國半導體大廠工程師 王耀(化名、變音)：「只要做半導體，它都必須得考慮這些風險，我現在在另外一家，它的半導體也是上到清單了，（晶片）現在拿不到了，庫存都快幹沒了呀，搞計算中心有風險的。」

新唐人電視台記者 熊斌 高玉 採訪報導